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英特尔:PCM技术取得突破 最小达5纳米
  • 11月2日,英特尔与芯片技术公司Numonyx上周发布了一项新技术。这两家公司声称该技术可以使非易失性记忆体突破NAND的20纳米限制,可以将处理尺寸降低至5纳米,而且可以取得很高的成本经济性。 此...

    11月2日,英特尔与芯片技术公司Numonyx上周发布了一项新技术。这两家公司声称该技术可以使非易失性记忆体突破NAND的20纳米限制,可以将处理尺寸降低至5纳米,而且可以取得很高的成本经济性。

    此外,这种记忆体的堆叠阵列还具有取代现有DRAM(动态随机存取记忆体)与NAND存储工作的潜力。英特尔院士兼记忆体技术开发总监Al Fazio今天早晨在向记者们解释的时候表示说这甚至可以让系统设计人员"将一些DRAM和固态存储的功能放到一个记忆体类中去。"

    简而言之,这将可以将DRAM和存储整合到一个高速高带宽架构中。但是,这个技术跃进还有很长的路要走--根据今天的发布内容,利用这种技术的产品要"许多年"以后才会出现。

    Fazio与Greg Atwood(Numonyx高级技术专家)所描述的技术突破是指相变存储器(PCM)技术的进展PCMS(相变存储器与开关)。PCMS可以在同一个基本硫族材料上创造出薄膜记忆体单元与薄膜选择器,并将它们整合到一个交叉点架构中。

    这种新型的薄膜选择器被称为双向阀值开关(OTS)。OTS可以在CMOS(互补金属氧化物半导体)基础上堆叠多层记忆体/选择器,从而创造出高密度和高带宽的PCM记忆体。

    这种堆叠是他们的目标。在发布会中,他们表示正在开发64Mb的单层版本的新存储器架构。该架构将在2009年12月的马里兰州巴尔的摩国际电子器件大会上正式亮相。

    但是多层版本的新设备还处于设计之中。Atwood表示:"第一层是难度最高的层。"

    根据Fazio与Atwood的说法,比起目前的NAND记忆体,PCM有很多优势。例如,NAND单元的电子器件数量会随着处理尺寸的缩减而减少,根据Fazio的说法,现在已经减少到"只有一点点了"。此外,NAND单元的内部电压会超过20伏,带来令人厌烦的电场干扰。

    另一方面,根据Atwood的说法,PCM的比特是"类RAM"的,也就是说,它们可以独立修改,而不是像NAND那样需要以块为单位进行修改。

    类RAM(随机存取记忆体)的功能有很明显的优势。Fazio表示:"这个记忆体技术看起来就像记忆体--换句话说,硬件可以进行取出/保存操作,因为它可以在低延迟性下对小量数据进行操作,而且它是非易失性的,因此具有存储的非易失性特征。"

    这听起来很好--尤其是考虑到未来摩尔定律将处理尺寸压缩到5纳米范围,以及所发布的技术将带来高成本经济性和高密度的封装。

    Fazio和Atwood坚定不移地相信会做到这一点。

    11月2日,英特尔与芯片技术公司Numonyx上周发布了一项新技术。这两家公司声称该技术可以使非易失性记忆体突破NAND的20纳米限制,可以将处理尺寸降低至5纳米,而且可以取得很高的成本经济性。 此...